发明名称 |
电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘视窗及制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种等离子处理腔室及其抗腐蚀元件及制造方法,所述元件上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。本发明尤其适用于电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘视窗。本发明提供的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘视窗涂层组织致密稳定,无颗粒污染风险,并且造价低。并且,由于涂层厚度可控,与氧化铝基地的绝缘视窗热匹配性能好,因此不会发生热致开裂等问题。 |
申请公布号 |
TW201532482 |
申请公布日期 |
2015.08.16 |
申请号 |
TW103142791 |
申请日期 |
2014.12.09 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
张力;贺 小明 |
分类号 |
H05H1/34(2006.01);H01L21/67(2006.01);C23C4/10(2006.01) |
主分类号 |
H05H1/34(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
黄信嘉谢炜勇 |
主权项 |
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地址 |
中国大陆 CN |