发明名称 使用冲穿效应以限制放大器电压;AMPLIFIER VOLTAGE LIMITING USING PUNCH-THROUGH EFFECT
摘要 本发明提供用于使用矽穿孔(TSV)定位在半导体电路中进行电压箝位之系统及方法。本发明揭示一种半导体晶粒,其包含:一矽基板;一双极电晶体,其具有安置于该基板上之集极、射极、基极及子集极区域;及一矽穿孔(TSV),其定位于该子集极区域之35微米内以将该双极电晶体之一峰值电压箝位在一电压极限位准处。
申请公布号 TW201532240 申请公布日期 2015.08.16
申请号 TW103146654 申请日期 2014.12.31
申请人 西凯渥资讯处理科技公司 SKYWORKS SOLUTIONS, INC. 发明人 奎格丽塔 安东尼 法兰西斯 QUAGLIETTA, ANTHONY FRANCIS;麦趴特林 麦克 约瑟夫 MCPARTLIN, MICHAEL JOSEPH
分类号 H01L23/60(2006.01) 主分类号 H01L23/60(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国 US