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发明名称
使用冲穿效应以限制放大器电压;AMPLIFIER VOLTAGE LIMITING USING PUNCH-THROUGH EFFECT
摘要
本发明提供用于使用矽穿孔(TSV)定位在半导体电路中进行电压箝位之系统及方法。本发明揭示一种半导体晶粒,其包含:一矽基板;一双极电晶体,其具有安置于该基板上之集极、射极、基极及子集极区域;及一矽穿孔(TSV),其定位于该子集极区域之35微米内以将该双极电晶体之一峰值电压箝位在一电压极限位准处。
申请公布号
TW201532240
申请公布日期
2015.08.16
申请号
TW103146654
申请日期
2014.12.31
申请人
西凯渥资讯处理科技公司 SKYWORKS SOLUTIONS, INC.
发明人
奎格丽塔 安东尼 法兰西斯 QUAGLIETTA, ANTHONY FRANCIS;麦趴特林 麦克 约瑟夫 MCPARTLIN, MICHAEL JOSEPH
分类号
H01L23/60(2006.01)
主分类号
H01L23/60(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国 US
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