发明名称 半导体接合用接着片及半导体装置的制造方法
摘要 本发明所提供的半导体接合用接着片,系可埋藏凸块电极等突起状电极,结果背面研削性优异。本发明的半导体接合用接着片,系依序积层着:基材、凹凸吸收层、黏着剂层、及接着剂层而成;而,黏着剂层系由能量线硬化型黏着剂组成物的硬化物构成;接着剂层系可剥离地形成于黏着剂层上。
申请公布号 TW201531549 申请公布日期 2015.08.16
申请号 TW103137355 申请日期 2014.10.29
申请人 琳得科股份有限公司 LINTEC CORPORATION 发明人 根津裕介 NEZU, YUSUKE;加太章生 KABUTO, AKIO
分类号 C09J7/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09J7/02(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本 JP