发明名称 |
半导体基板中的半导体元件及其制备方法;SEMICONDUCTOR DEVICES IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND FABRICATION METHOD THEREOF |
摘要 |
本发明公开了一种用于沟槽金属氧化物半导体场效应电晶体(MOSFET)中的低米勒电容的较厚的底部氧化物,提出了半导体元件的制备方法和元件。半导体功率元件形成在半导体基板上,具有复数个沟槽电晶体晶胞,各晶胞都有一个沟槽闸极。各沟槽闸极都具有藉由多晶矽层上的再氧化制程形成的较厚的底部氧化物(TBO),沉积在沟槽的底面上。 |
申请公布号 |
TW201532281 |
申请公布日期 |
2015.08.16 |
申请号 |
TW104103109 |
申请日期 |
2015.01.30 |
申请人 |
万国半导体股份有限公司 ALPHA AND OMEGA SEMICONDUCTOR INCORPORATED |
发明人 |
李亦衡 LEE, YEEHENG;王晓彬 WANG, XIAOBIN |
分类号 |
H01L29/78(2006.01);H01L29/40(2006.01);H01L21/336(2006.01) |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
杨长峯李国光张仲谦 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |