基板处理装置;APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE

摘要

本发明揭示一种基板处理装置。该装置包含：一腔室，该腔室提供一内部空间，其中执行关于该基板的处理；一承座，其位于该内部空间内并且其上放置该基板；一固定板，其位于沿着该承座四周放置在该腔室侧壁内的一排放口之内，该固定板具有复数个贯穿孔；以及至少一滑动板，其位于该固定板的上半部或下半部上，相对于该承座的旋转，该至少一滑动板选择性开启与关闭该等贯穿孔。