| 发明名称 |
磁记录膜形成用溅镀靶及其制造方法 |
| 摘要 |
一种溅镀靶，系含有C之FePt系磁记录膜形成用溅镀靶，其特征在于：在垂直于溅镀面之剖面的研磨面，Fe-Pt合金相之平均厚度在10μm以上。课题在于提供一种抑制溅镀时因异常放电导致产生颗粒之强磁性材溅镀靶。 |
| 申请公布号 |
TW201531575 |
申请公布日期 |
2015.08.16 |
| 申请号 |
TW103139844 |
申请日期 |
2014.11.18 |
| 申请人 |
ＪＸ日鑛日石金属股份有限公司 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION |
发明人 |
荻野真一 OGINO, SHIN-ICHI |
| 分类号 |
C23C14/14(2006.01);C23C14/34(2006.01);G11B5/851(2006.01);B22F3/12(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
