发明名称 积层偏光薄膜、其制造方法、积层光学薄膜及影像显示装置
摘要 本发明之积层偏光薄膜系藉由低弹性接着剂层(a)来积层偏光薄膜及偏光件之外的光学薄膜而成的积层偏光薄膜,其中,前述偏光薄膜藉由接着剂层(b)在偏光件之至少一面上积层有透明保护薄膜,并且,于该透明保护薄膜上积层有前述低弹性接着剂层(a),前述低弹性接着剂层(a)在25℃下的储存弹性模数为3.0×10 5 ~1.0×10 8 Pa,并且,前述低弹性接着剂层(a)之厚度为0.1~5μm。本发明之积层偏光薄膜之耐冲撃性及热挫曲性良好。
申请公布号 TW201531752 申请公布日期 2015.08.16
申请号 TW103145738 申请日期 2014.12.26
申请人 日东电工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION 发明人 冈本美纪 OKAMOTO, MIKI;山崎达也 YAMASAKI, TATSUYA;姜太艳 JIANG, TAIYAN;冈本昌之 OKAMOTO, MASAYUKI;村冈敦史 MURAOKA, ATSUSHI;齐藤武士 SAITO, TAKESHI;池田哲朗 IKEDA, TETSUROU
分类号 G02B5/30(2006.01);C09J7/02(2006.01);G02F1/13363(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群陈文郎
主权项
地址 日本 JP