Sensor, Sensoranordnung und Lithographieanlage mit Sensor

摘要

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, mit einem optischen Korrekturelement (3) zur Korrektur von Abbildungsfehlern insbesondere eines Projektionsobjektives der Projektionsbelichtungsanlage, wobei das optische Korrekturelement (3) zum Erreichen der Korrekturwirkung definiert verformt oder bewegt werden kann und wobei mehrere Abstandssensoren zur Bestimmung der Verformung oder Bewegung des optischen Korrekturelementes (3) vorhanden sind und wobei eine mehreren Abstandssensoren zugeordnete Referenzebene (7) vorhanden ist, welche sich bereichsweise entlang des optischen Korrekturelementes (3) erstreckt und wobei der Abstandssensor geeignet ist, eine Verformung oder Bewegung des optischen Korrekturelementes (3) anhand einer Abstandsänderung zwischen der Referenzebene (7) und einer Oberfläche des optischen Korrekturelementes (3) zu bestimmen.