使用高温热处理的300mm硅抛光片制造工艺

摘要

一种使用高温热处理的300mm硅抛光片制造工艺，它包括：拉晶、切片导角、双面磨削，双面抛光、最终抛光、高温热处理工序。本制造工艺流程中保留双面磨削，磨削后直接抛光，省去单面磨削工序，而抛光没有消除的表层微损伤由后续高温热处理工艺来消除，本工艺流程简单，既可以提高生产效率，也可以提高硅片的质量。

主权项

一种使用高温热处理的300mm硅抛光片制造工艺，它包括：拉晶、切片导角、双面磨削，双面抛光、最终抛光、高温热处理工序；所述的高温热处理工序包括：(1)、650℃下将经过清洗的硅片载入；硅片所处环境中氧气和水分的含量应小于1ppma，达到热平衡后，通入氩气将腔体内的氮气逐渐置换出去，整个恒温和氮气置换需要10‐20min；(2)、当腔体内变成氩气气氛后，对腔体升温到1250‐1300℃，整个升温过程中需要不断充入氩气，氩气的流量在10‐50L/min；(3)、将硅片在1250‐1300℃恒温，恒温时间为30‐60min，继续保持氩气的流量在10‐50L/min；(4)、在保证不出现热滑移的前提下，将硅片快速降温到650℃，氩气的流量在10‐80L/min；(5)、在纯氮气环境下冷却至室温，硅片出炉，获得了表层无微应力的硅片。