| 摘要 |
<p>본 발명은 가열수단의 출사광이 통과하는 광투과공간과 출사광을 반사시키는 상부 반사판에 위해, 기판안치대의 주변영역의 열손실을 보상하여 기판안치대를 균일하게 가열할 수 있는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는, 투명재질의 상부 및 하부영역를 포함하고, 반응공간을 제공하는 챔버; 상기 반응공간에 위치하고 기판이 안치되는 기판안치대; 상기 챔버의 하부에 위치하며, 상기 기판안치대를 가열하기 위한 가열수단; 상기 챔버의 내측면에 설치되는 에지 링; 상기 에지 링과 상기 기판안치대 사이에 설치되고, 상기 가열수단의 출사광을 투과시키기 위한 광투과 공간; 상기 광투과 공간과 대응되는 상기 챔버의 상부에 설치되는 상부 반사판;을 포함하는 것을 특징으로 한다.</p> |
