发明名称 用于打印头进给槽的保护涂层
摘要 制造抗腐蚀打印头芯片的方法,包括:形成涂层材料的自离子化等离子体(SIP);在包括多个进给槽(40)的打印头芯片上建立偏压,每个进给槽(40)包括侧壁表面(61);以及使得涂层材料等离子体沉积在所述表面上,以形成保护涂层,其中,涂层材料的至少一部分通过二次溅射沉积在所述表面的至少一部分上。在一些情况下,所述进给槽具有大于2的纵横比。在一些情况下,进给槽包括至少一个肋(41),每个肋(41)包括顶表面(68)、下表面(69)和两个侧表面(66),所形成的保护涂层沉积在每个肋(41)的顶表面(68)、下表面(69)和两个侧表面(66)上。
申请公布号 CN102574399B 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN200980162196.1 申请日期 2009.10.28
申请人 惠普发展公司,有限责任合伙企业 发明人 S.鲍米克;R.里瓦斯;G.R.万纳科特
分类号 B41J2/235(2006.01)I 主分类号 B41J2/235(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 董均华
主权项 一种用于在打印头进给槽上形成保护涂层的方法,包括:形成涂层材料的自离子化等离子体(SIP);在包括多个进给槽(40)的打印头芯片上建立偏压,其中每个进给槽(40)向相应的喷发腔输送流体,每个所述进给槽(40)都包括侧壁表面(61);以及使得涂层材料沉积在所述表面上,以形成保护涂层,其中,所述涂层材料的至少一部分通过二次溅射沉积在所述表面的至少一部分上。
地址 美国德克萨斯州