发明名称 三族氮化合物半导体紫外光发光二极管
摘要 一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层。所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构。所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于等于所述有源层的晶格常数,小于等于所述n型半导体层的晶格常数。所述n型应变层晶格结构使所述n型半导体层与所述有源层之间达成渐变晶格匹配,可以消除n型半导体层从下面传递来的缺陷,及减缓晶格部匹配造成的能带倾斜,以提升量子阱发光强度。
申请公布号 CN102637793B 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN201110037662.2 申请日期 2011.02.15
申请人 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 发明人 凃博闵;黄世晟
分类号 H01L33/02(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I 主分类号 H01L33/02(2010.01)I
代理机构 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人 叶小勤
主权项 一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层,其特征在于,所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构,所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于所述有源层的晶格常数,小于所述n型半导体层的晶格常数,使所述n型半导体层与所述有源层之间达成渐变晶格匹配,所述n型应变层晶格结构的具体结构为(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N‑GaN)<sub>m</sub>,其由Al<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N层和GaN层交替分布,其中0≦x≦1,m代表层数,所述n型应变层晶格结构中掺杂n型杂质,其浓度为10<sup>17</sup>EA/cm<sup>3</sup>‑10<sup>18</sup>EA/cm<sup>3</sup>,所述n型应变层晶格结构的厚度为2~2.5μm。
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