发明名称 |
三族氮化合物半导体紫外光发光二极管 |
摘要 |
一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层。所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构。所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于等于所述有源层的晶格常数,小于等于所述n型半导体层的晶格常数。所述n型应变层晶格结构使所述n型半导体层与所述有源层之间达成渐变晶格匹配,可以消除n型半导体层从下面传递来的缺陷,及减缓晶格部匹配造成的能带倾斜,以提升量子阱发光强度。 |
申请公布号 |
CN102637793B |
申请公布日期 |
2015.08.12 |
申请号 |
CN201110037662.2 |
申请日期 |
2011.02.15 |
申请人 |
展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
发明人 |
凃博闵;黄世晟 |
分类号 |
H01L33/02(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/02(2010.01)I |
代理机构 |
深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 |
代理人 |
叶小勤 |
主权项 |
一种三族氮化合物半导体发光二极管,其包括蓝宝石衬底、依次成长在该蓝宝石衬底上的n型半导体层、有源层以及p型半导体层,其特征在于,所述n型半导体层与有源层之间还成长有一n型应变层晶格结构,所述n型应变层晶格结构的晶格常数大于所述有源层的晶格常数,小于所述n型半导体层的晶格常数,使所述n型半导体层与所述有源层之间达成渐变晶格匹配,所述n型应变层晶格结构的具体结构为(Al<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N‑GaN)<sub>m</sub>,其由Al<sub>x</sub>Ga<sub>1‑x</sub>N层和GaN层交替分布,其中0≦x≦1,m代表层数,所述n型应变层晶格结构中掺杂n型杂质,其浓度为10<sup>17</sup>EA/cm<sup>3</sup>‑10<sup>18</sup>EA/cm<sup>3</sup>,所述n型应变层晶格结构的厚度为2~2.5μm。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 |