发明名称 记录装置
摘要 本发明提供考虑了对被记录介质滴落的墨水照射电磁波而使墨水硬化时的弊端的记录装置。记录装置(1)构成为,包括:记录头部(5);第1移动单元(15),改变被记录介质(S)和上述记录头部的相对位置关系;第1照射部16,设置在上述记录头部相反侧的可照射使墨水硬化的电磁波(W);第2移动单元(19),改变被记录介质和上述第1照射部的相对位置关系,上述被记录介质具有透过上述电磁波的透过性,通过上述第1移动单元,被记录介质中从上述记录头部的喷嘴排出的墨水滴落的处所和上述记录头部的喷嘴从相对关系成为不相对的关系,上述第1照射部对成为该不相对关系的被记录介质中的上述墨水滴落的处所照射。
申请公布号 CN102582256B 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN201210007511.7 申请日期 2012.01.11
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 臼田秀范;鸭志田伸一
分类号 B41J2/01(2006.01)I 主分类号 B41J2/01(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 陈海红;段承恩
主权项 一种记录装置,其特征在于,包括:记录头部,从喷嘴对被记录介质排出墨水;第1移动单元,使上述被记录介质及上述记录头部的至少一方移动;第1照射部,设置在以上述被记录介质为基准的上述记录头部相反侧,可照射使上述墨水硬化的电磁波;第2移动单元,使上述被记录介质及上述第1照射部的至少一方移动;控制部,控制上述记录头部、上述第1移动单元、上述第1照射部、上述第2移动单元的驱动,上述控制部在上述记录头部的喷嘴和上述被记录介质中的从上述记录头部的喷嘴排出的墨水滴落的处所不相对的场合,使得从上述第1照射部对上述墨水滴落的处所照射上述电磁波,上述控制部在从上述第1照射部照射上述电磁波时,使用上述第1移动单元使上述第1照射部和上述被记录介质相对地移动,并且根据记录数据上的要照射上述电磁波的处所的单位面积的墨水滴落量,改变从上述第1照射部照射的上述电磁波的照射量。
地址 日本东京都