发明名称 一种增大LCOS像素单元电路存储电容的器件结构
摘要 本实用新型提出了一种增大硅基液晶显示面板LCOS像素单元电路存储电容的器件结构,属于信息科学技术学科的微电子技术领域。LCOS像素单元器件结构设置在P型硅衬底上,具有N型阱,PMOS存取晶体管,NMOS存取晶体管,像素电容,叠层式金属电容以及窄型深P<sup>+</sup>注入电容。本实用新型建立了合理的像素单元器件结构,NMOS存取晶体管和PMOS存取晶体管形成互补的MOS传输门,有效降低了像素输入数据的损耗,并且通过合理利用工艺现有金属层来制造高密度叠层式金属电容,通过在P型硅衬底内部深注入的P<sup>+</sup>形成窄平板型电容器,并使上述两种电容器与像素单元的像素电容并联,由此得以增大存储电容器的电容值。
申请公布号 CN204557029U 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN201520277647.9 申请日期 2015.04.30
申请人 南开大学 发明人 代永平;刘彐娇
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人 侯力
主权项 一种增大硅基液晶显示面板LCOS像素单元电路存储电容的器件结构,其特征在于包括PMOS存取晶体管(1)、NMOS存取晶体管(2)、N型阱(3)、第一像素电容(4)、第一叠层式金属电容(5)、第一窄型深P<sup>+</sup>注入电容(6)、第二像素电容(7)、第二叠层式金属电容(8)、第二窄型深P<sup>+</sup>注入电容(9)和P型硅衬底(10);所述的N型阱(3)、NMOS存取晶体管(2)、第一窄型深P<sup>+</sup>注入电容(6)和第二窄型深P<sup>+</sup>注入电容(9)放置于P型硅衬底(10)上,PMOS存取晶体管(1)放置于N型阱(3)内;NMOS存取晶体管(2)的栅极G连接至第一寻址信号线SCAN上,漏极D连接至第一像素电容(4);PMOS存取晶体管(1)的栅极G连接至第二寻址信号线SCAN上,漏极D连接至第二像素电容(7);PMOS存取晶体管(1)的漏极和NMOS存取晶体管(2)的漏极相连,PMOS存取晶体管(1)的源极和NMOS存取晶体管(2)的源极S均连接至同一列数据输入线DATA以接收图像信息;NMOS存取晶体管(2)和PMOS存取晶体管(1)形成互补的MOS传输门;覆盖在第一像素电容(4)之上的第一层金属(M1)、第二层金属(M2)、第三层金属(M3)和第四层金属(M4)形成第一叠层式金属电容(5),第一像素电容(4)、第一叠层式金属电容(5)和第一窄型深P+注入电容(7)具有公共端即并联;与NMOS存取晶体管(2)相连接的第一叠层式金属电容(5)的第一层金属(M1)连接至地信号线GND;覆盖在第二像素电容(7)之上的第一层金属(M1)、第二层金属(M2)、第三层金属(M3)和第四层金属(M4)形成第二叠层式金属电容(8),第二像素电容(7)、第二叠层式金属电容(8)和第二窄型深P+注入电容(9)具有公共端即并联;与PMOS存取晶体管(1)相连接的第二叠层式金属电容(8)中的第一层金属M1连接至电源信号线VCC;NMOS存取晶体管(2)和PMOS存取晶体管(1)形成互补的MOS传输门。
地址 300071 天津市南开区卫津路94号
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