发明名称 | 钽溅射靶 | ||
摘要 | 本发明涉及一种钽溅射靶,其特征在于,含有1质量ppm以上且50质量ppm以下的硼作为必要成分,并且除硼和气体成分以外的纯度为99.998%以上。本发明的目的在于得到具有均匀微细的组织、等离子体稳定、膜的均匀性优良的高纯度钽溅射靶。 | ||
申请公布号 | CN103052733B | 申请公布日期 | 2015.08.12 |
申请号 | CN201180038023.6 | 申请日期 | 2011.07.21 |
申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 仙田真一郎;福岛笃志 |
分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
主权项 | 一种钽溅射靶,其特征在于,含有1质量ppm以上且50质量ppm以下的硼作为必要成分,并且除硼和气体成分以外的纯度为99.998%以上。 | ||
地址 | 日本东京 |