光产酸剂用化合物以及使用它的抗蚀剂组合物、图案形成方法

摘要

以下式(1)表示的磺酸鎓盐能够用作抗蚀剂组合物用优异的辐射线敏感性产酸剂。通过使用含该磺酸鎓盐的抗蚀剂组合物，能够形成良好的图案。在式(1)中，R¹表示1价有机基团，Q⁺表示锍阳离子或碘鎓阳离子。

主权项

一种抗蚀剂组合物，该组合物含有基础树脂、产酸剂以及溶剂而成，其特征在于，所述产酸剂是三苯基锍2‑(1’‑金刚烷)羰氧基‑1,1‑二氟乙烷磺酸盐或三苯基锍2‑(3’‑羟基‑1’‑金刚烷)羰氧基‑1,1‑二氟乙烷磺酸盐，所述基础树脂是含有以下式(11)、(12)、(8)或(9)表示的重复单元的高分子化合物，在上述式(11)中，R⁷表示氢原子、卤素原子、烃基、含氟烷基，R¹⁰、R¹¹、R¹²中的任一个是CF₃C(CF₃)(OH)CH₂‑基，其余2个是氢原子，在上述式(12)中，R⁷与式(11)的R⁷意义相同，R¹³为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、氟甲基、二氟甲基、三氟甲基或全氟乙基，在上述式(8)中，R⁷与式(11)的R⁷意义相同，R¹⁴表示三氟甲基，R¹⁵是氢原子、碳原子数1～25的直链、支链或者环状烃基或者含芳香族烃基的基团，其一部分还任选含有氟原子、氧原子、羰基键，r表示0～2的任意整数，m、q表示1～8的任意整数，满足m≤q+2，当R¹⁴～R¹⁵是多个的情况下，R¹⁴～R¹⁵彼此相同或不同，在上述式(9)中，X表示‑CH₂‑、‑O‑、‑S‑任意一个，t表示1～6的整数，其中所述基础树脂为由酸的作用引起相对于碱显影液的溶解性变化的基础树脂。