一种防蓝光的手机屏幕盖板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种防蓝光的手机屏幕盖板及其制造方法，该种手机屏幕盖板在基板的外表面和内表面都镀有多层膜，其制造方法是在基板的外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防蓝光手机屏幕盖板，制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）基板清洗后的干燥；3）基板镀膜前在电子束蒸镀机的真空舱内的再次清洗；4）基板的镀膜；基板的镀膜包括在基板的外表面镀膜系和在基板的内表面镀膜系。本发明制造出来的防蓝光的手机屏幕盖板具有防止有害蓝光和紫外线对人体的伤害，让手机使用者用眼更加安全，能够预防眼部疾病，该手机屏幕盖板还具有防油污和抗冲击强化的功能。

主权项

一种防蓝光的手机屏幕盖板的制造方法，其特征在于：所述手机屏幕盖板包括基板，所述基板的外表面和内表面均设有膜系，所述基板的外表面的膜系从里到外依序包括抗冲击强化膜层、防蓝光膜层、导电膜层和防油污膜层；所述基板的内表面的膜系从里到外依序包括抗冲击强化膜层和导电膜层；所述制造方法具体包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）基板清洗后的干燥：将清洗后的基板用异丙醇脱干，脱干后的基板采用异丙醇慢拉干燥；3）基板镀膜前在电子束蒸镀机的真空舱内的再次清洗：将异丙醇慢拉干燥后的基板置于电子束蒸镀机的真空舱内，当真空舱内的真空值小于或等于2.0×10^‑3帕，启动离子源对基板进行清洗；4）基板的镀膜：基板的镀膜包括在基板的外表面镀膜系和在基板的内表面镀膜系；A、基板的外表面镀膜A1、镀抗冲击强化膜层：当真空舱内的真空值小于或等于2.0×10^‑3帕，采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基板外表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材包括以下重量百分比的组分的混合物：氧化硅20%‑80%；氧化锆20%‑80%；A2、镀防蓝光膜层：采用电子枪将防蓝光膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A1中抗冲击强化膜层的表面，形成防蓝光膜层，防蓝光膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述防蓝光膜层的膜材包括以下重量百分比的组分的混合物：氧化锡30%‑60%；铷10%‑40%；铂10%‑40%；A3、镀导电膜层：采用电子枪将导电膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A2中防蓝光膜层的表面，形成导电膜层，导电膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述导电膜层的膜材为氧化铟锡；A4、镀防油污膜层：采用电子枪将防油污膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤A3中导电膜层的表面，形成防油污膜层，防油污膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述防油污膜层的膜材包括以下重量百分比的组分的混合物：氟化镁60%‑80%；氧化铟锡20%‑40%；防油污膜层镀膜完成，基板的外表面镀膜系完成后，转入基板的内表面镀膜系；B、基板的内表面镀膜；B1、镀抗冲击强化膜层：采用电子枪，将抗冲击强化膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于基板内表面，形成抗冲击强化膜层，抗冲击强化膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述抗冲击强化膜层的膜材包括以下重量百分比的组分的混合物：氧化硅20%‑80%；氧化锆20%‑80%；B2、镀导电膜层：采用电子枪将导电膜层的膜材进行蒸发后，在离子源的作用下所述膜材以纳米级分子形式沉积于步骤B1中抗冲击强化膜层的表面，形成导电膜层，导电膜层的厚度为0.1‑600纳米；所述导电膜层的膜材为氧化铟锡。