发明名称 パッシベートされたシリコンナノワイヤーの製造方法およびこれにより得られるデバイス
摘要 <p>Methods for fabricating passivated silicon nanowires and an electronic arrangement thus obtained are described. Such arrangements may comprise a metal-oxide-semiconductor (MOS) structure such that the arrangements may be utilized for MOS field-effect transistors (MOSFETs) or opto-electronic switches.</p>
申请公布号 JP5763629(B2) 申请公布日期 2015.08.12
申请号 JP20120517704 申请日期 2010.06.23
申请人 发明人
分类号 H01L21/336;H01L21/337;H01L21/338;H01L29/06;H01L29/78;H01L29/786;H01L29/808;H01L29/812 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
地址