发明名称 轴锥镜面形的测量装置和测量方法
摘要 一种轴锥镜面形的测量装置和测量方法,该装置由移相干涉仪、平面标准镜、聚焦透镜和平面反射镜组成,其位置关系是:沿所述的移相干涉仪出射光束前进方向依次是所述的平面标准镜、聚焦透镜和平面反射镜,在所述的平面标准镜和聚焦透镜之间设置待测轴锥镜的插口。本发明具有装置结构简单、测量方法操作方便的特点。
申请公布号 CN102901463B 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN201210431104.9 申请日期 2012.11.01
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 袁乔;曾爱军;张善华;黄惠杰
分类号 G01B11/24(2006.01)I 主分类号 G01B11/24(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯
主权项 一种利用轴锥镜面形的测量装置进行轴锥镜面形的测量方法,该测量装置由移相干涉仪、平面标准镜、聚焦透镜和平面反射镜组成,其位置关系是:沿所述的移相干涉仪出射光束前进方向依次是所述的平面标准镜、聚焦透镜和平面反射镜,在所述的平面标准镜和聚焦透镜之间设置待测轴锥镜的插口,其特征在于,该测量方法包括如下步骤:①在移相干涉仪输出的平行光束方向的平面标准镜和聚焦透镜之间的待测轴锥镜的插口置入待测轴锥镜,所述的待测轴锥镜的锥面朝向移相干涉仪的出光方向;②调整光路:所述的移相干涉仪出射的平行光束经所述的平面标准镜形成平行的测量光束,经所述的平面标准镜返回的光束形成参考光束;调整所述的平面标准镜的平行平面与所述的平行光束垂直;调整所述的待测轴锥镜的平面与测量光束垂直,同时保证所述的轴锥镜的中轴与移相干涉仪出射光束的中轴重合;调整所述的聚焦透镜与测量光束垂直,同时保证所述的聚焦透镜的光轴与移相干涉仪出射光束的中轴重合;调整所述的平面反射镜的平面与光轴垂直;③所述的测量光束透过所述的轴锥镜入射到所述的聚焦透镜,经所述的聚焦透镜使光束会聚到所述的平面反射镜上,然后经所述的平面反射镜反射返回,该返回的测量光束与平面标准镜返回的参考光束产生干涉;④调整所述的聚焦透镜与待测轴锥镜之间的距离获得完整清晰的干涉条纹,利用所述的移相干涉仪检测干涉条纹,即得到所述的轴锥镜的面形信息。
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