发明名称 | 利用含有有机溶剂之显影液的显影处理方法及显影处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI495964 | 申请公布日期 | 2015.08.11 |
申请号 | TW100146042 | 申请日期 | 2011.12.13 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 本武幸一;丹羽崇文;京田秀治;吉原孝介 |
分类号 | G03F7/30;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/30 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种显影处理方法,对在表面涂布有光阻,并经曝光后之基板供给含有有机溶剂之显影液以进行显影,其特征在于包含:液体膜形成程序,一面令该基板旋转,一面自显影液供给喷嘴对该基板中心部供给该显影液以形成液体膜;及显影程序,停止自该显影液供给喷嘴对该基板供给该显影液,并在不使该显影液液体膜乾燥之状态下一面令该基板旋转,一面使该基板上的光阻膜显影;其中,自该显影液供给喷嘴对该基板中心供给该显影液的时间短于停止自该显影液供给喷嘴对该基板供给该显影液的时间。 | ||
地址 | 日本 |