发明名称 | 显像处理方法,程式,电脑记忆媒体及显像处理系统 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI495963 | 申请公布日期 | 2015.08.11 |
申请号 | TW100100817 | 申请日期 | 2011.01.10 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 佐藤礼史;木场幸生;宫本哲嗣;长谷部和久 |
分类号 | G03F7/30 | 主分类号 | G03F7/30 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种显像处理方法,系使用比常温低的指定温度的显像液来将基板上的光阻膜予以显像的方法,其特征系具有:第1冷却工程,系于冷却装置内将基板载置于比常温低的温度且比前述指定的温度高的温度之冷却板而予以冷却,第2冷却工程,其系将基板搬送至显像装置内,在该显像装置内将前述指定的温度以下的洗涤液供给至基板上,而来冷却基板,显像工程,其系于基板上供给前述显像液,将基板上的光阻膜显像,而于该光阻膜形成光阻图案,以及洗净工程,其系于基板上供给前述指定的温度的洗涤液,而来洗净基板的表面。 | ||
地址 | 日本 |