发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI496213 | 申请公布日期 | 2015.08.11 |
申请号 | TW098108458 | 申请日期 | 2009.03.16 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 津田荣之辅 |
分类号 | H01L21/31 | 主分类号 | H01L21/31 |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 | |
主权项 | 一种基板处理装置,其特征为:具备处理室,其系对被处理基板,使用复数气体施予处理;气体供给机构,其系被设置在上述处理室,接受从上述气体供给机构被供给之上述复数气体;气体导入部,其系被设置在上述处理室,将上述复数气体从上述气体供给部导入至上述处理室内;及引入口区块,其系被配置在上述处理室上,于内部具有将上述复数气体从上述气体供给机构引导至上述气体导入部之复数气体流路,和加热流动于该些气体流路中之至少一条流路之气体的加热器,上述处理室之载置上述引入口区块之载置面为平坦,上述气体流路被连接于上述气体供给部之部位,及上述气体流路被连接于上述气体导入部之部位分别被设置在上述引入口区块之下面,上述引入口区块之下面为平坦。 | ||
地址 | 日本 |