植入光阻之保护层

主权项

一种用于在一基板中植入一掺杂剂的方法，包含：形成一图案化光阻遮罩于该基板之上，其中该图案化光阻遮罩具有图案化光阻遮罩特征部；藉由施行一循环沉积而将一保护层沉积于该图案化光阻遮罩上，其中各循环包含；一沉积阶段，用以在该图案化光阻遮罩的表面上方沉积一沉积层；及一轮廓成型阶段，用以提供垂直的侧壁；使用一离子束植入一掺杂剂至该基板内；及移除该保护层及该图案化光阻遮罩，其中施行该保护层之循环沉积至少两个循环，且各沉积阶段之各沉积层具有介于0.5nm至5nm的厚度。