发明名称 |
由二噻吩基乙烯共聚物制备之半导体材料 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI495656 |
申请公布日期 |
2015.08.11 |
申请号 |
TW098143766 |
申请日期 |
2009.12.18 |
申请人 |
巴地斯颜料化工厂;保利艾拉公司 |
发明人 |
米席瑞 阿沙克 库莫;法丹那森 沙冰曼尼恩;野口宙干;朵兹 芙罗拉;库勤 席克;凯斯特勒 马可 |
分类号 |
C08G61/12;H01L51/05;H01L51/50 |
主分类号 |
C08G61/12 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
一种式I聚合物,
其中:π-2系选自由下式之重复单元组成之群其中:R1、R2、R3及R4系选自由H、卤素、-CN、C1-30烷基、C2-30烯基、C1-20烷氧基及C1-20烷硫基所组成之群组,n为大于1之整数,且y'系1或2。 |
地址 |
美国 |