发明名称 |
导电膜及其制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI496171 |
申请公布日期 |
2015.08.11 |
申请号 |
TW100101966 |
申请日期 |
2011.01.19 |
申请人 |
国立大学法人京都大学;三洋化成工业股份有限公司;三菱丽阳股份有限公司 |
发明人 |
东谷公;都藤靖泰;中山将辉;挂伸二 |
分类号 |
H01B5/14;B32B3/12 |
主分类号 |
H01B5/14 |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种导电膜的制造方法,其包括如下步骤:于基板(A)的表面上配置具有贯穿与基板(A)接触的面及其背面的网眼构造的开口部的铸模(B),使导电性粒子(P)的分散液(D)于配置有上述铸模(B)的上述基板(A)的表面散开并进行乾燥,藉此于上述基板(A)与上述铸模(B)的连接点附近形成由上述导电性粒子(P)所形成的网眼状构造(C)后,将上述铸模(B)自上述基板(A)上卸除,藉此使由上述导电性粒子(P)所形成的上述网眼状构造(C)形成于上述基板(A)的表面上。
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地址 |
日本 |