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一种电子束装置，系用以利用电子束评估配置于载物台上之试料上的图案用者，其特征在于包含：电子枪，用以放射一次电子束；一次电子光学系统，用以将来自电子枪之一次电子束照射于试料上；二次电子光学系统，系具备放大透镜及射束偏向器，用以将藉由一次电子束之照射而从试料释放出之二次电子束引导至与试料表面垂直之方向；检测手段，用以对由二次电子光学系统所引导之二次电子束进行检测；处理手段，系依据检测手段之输出，取得试料表面的图像资讯；以及座标误差补正手段，用以补正载置台上的试料的座标误差；其中，上述一次电子光学系统系包含：电子光学手段，用以将一次电子束引导至相对于试料的法线为倾斜之方向；以及偏向手段，系由E×B分离器所构成，且用以将来自倾斜之方向之一次电子束偏向于与试料表面垂直之方向并照射于试料上；上述座标误差补正手段系包含：第1运算手段，用以算出已定位置的作为基准的试料上之复数个任意基准点计算上的XY座标、与该等
基准点被测定之XY座标(x,y)间的座标误差△x及△y；第2运算手段，根据被算出的座标误差△x及△y，运算XY座标之正交误差；第3运算手段，根据被算出的座标误差△x及△y，运算因电子束装置的干涉计之镜片畸变(mirror distortion)所造成的误差；正交误差补正手段，根据被运算出的正交误差，在检查试料时，补正被测定之XY座标(x,y)；及电子束偏向补正手段，根据因被运算出之镜片畸变所造成的误差，在检查试料时，补正被配置于二次电子光学系统之电子束偏向器之偏向；上述第2运算手段及第3运算手段，系具备回归运算手段，该回归运算手段系利用回归运算求出其满足以△x=a1+b1x+c1y+d1x2+e1y2(1) △y=a2+b2x+c2y+d2x2+e2y2(2)表示的公式(1)及(2)之系数a1至e1及a2至e2；第2运算手段复具备将XY座标系之正交误差当作被求出的系数c1及b2之差来运算的手段；第3运算手段复具备将△x及△y当作因镜片畸变所造成的误差来运算的手段，该△x及△y系在将被求出的系数d1、d2、e1、e2，代入以△x=d1x2+e1y2(3) △y=d2x2+e2y2(4)
表示的公式(3)及(4)内而所得的公式中，藉由代入驱动电子束装置时从干涉计输入之XY座标(x,y)而所得者。 |
