发明名称 POSITION MEASUREMENT APPARATUS EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE
摘要 <p>기준 마크를 이용하여 피검출체의 위치를 계측하는 위치 계측 장치는, 제1 파장 대역의 광을 사출하는 광원으로부터의 계측 광을 이용하여 상기 피검출체를 조명하도록 구성된 제1 조명 광학계, 제2 파장 대역의 기준 광을 이용하여 기준 마크를 조명하도록 구성된 제2 조명 광학계, 및 피검출체로부터의 광 및 기준 마크로부터의 광을 검출하고, 그 검출 결과에 기초하여 피검출체의 위치를 구하도록 구성된 위치 계측 유닛을 포함하고, 기준 광의 제2 파장 대역은 광원으로부터의 계측 광의 제1 파장 대역의 상한과 하한 사이에 설정된다.</p>
申请公布号 KR101539827(B1) 申请公布日期 2015.08.06
申请号 KR20120125240 申请日期 2012.11.07
申请人 캐논 가부시끼가이샤 发明人 사카모토 노리토시
分类号 G01B11/00;G03F7/20 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人
主权项
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