发明名称 酸化インジウム含有層の製造法
摘要 <p>本発明は、酸化インジウム含有層を製造する液相法であって、一般式MxOy(OR)z[O(R'O)eH]aXbYc[R''OH]d、ここで、x=3〜25、y=1〜10、z=3〜50、a=0〜25、b=0〜20、c=1〜20、d=0〜25、e=0,1、M=In、R、R'、R''=有機基、X=F、Cl、Br、I、Y=−NO3、−NO2であり、但し、b+c=1〜20であるものとし、の少なくとも1つのインジウムオキソアルコキシド、および少なくとも1つの溶剤を含む組成物を基体上に施与し、任意に乾燥させ、および酸化インジウム含有層に変換する、前記液相法、前記一般式のインジウムオキソアルコキシド、当該インジウムオキソアルコキシドを含有する被覆組成物、本発明による方法で製造可能な層およびセンサーまたは太陽電池を製造するための当該層の使用に関する。</p>
申请公布号 JP2015522509(A) 申请公布日期 2015.08.06
申请号 JP20150516550 申请日期 2013.06.04
申请人 发明人
分类号 C01G15/00;H01L21/336;H01L29/786 主分类号 C01G15/00
代理机构 代理人
主权项
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