发明名称 Plasmaversorgungseinrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Vollbrücke einer Plasmaversorgungseinrichtung
摘要 <p>Plasmaversorgungseinrichtung (10) mit einer an eine Leistungsgleichstromversorgung angeschlossenen Vollbrückenschaltung (11), die zwei Halbbrücken (14, 17) mit jeweils zwei in Serie geschalteten Schaltelementen (15, 16, 18, 19) aufweist, wobei an Mittelpunkte (M1, M2) der Halbbrücken (14, 17) zwischen den Schaltelementen (15, 16, 18, 19) eine Primärwicklung (20) eines Leistungsübertragers (21) angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Primärwicklung (20) eine Anzapfung (25) aufweist, an die ein Potential angeschlossen ist, das zwischen den beiden Potentialen der Leistungsgleichstromversorgung liegt.</p>
申请公布号 DE112008000092(B4) 申请公布日期 2015.08.06
申请号 DE20081100092T 申请日期 2008.06.11
申请人 TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG 发明人 KIRCHMEIER, THOMAS;GLÜCK, MICHAEL;WINDISCH, HANS-JÜRGEN;KNAUS, HANNS-JOACHIM
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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