| 摘要 |
複数の酸素浄化帯および複数の酸化帯を含む反応帯が提供される。一次流が、液体シクロヘキサン、および任意にシクロヘキサン酸化触媒を含む酸化浄化帯に導入される。さらに、酸素含有ガスが、酸化帯中に導入される。次に、一次流は、下方に、酸素浄化帯から酸化帯に通され、一方、酸素含有ガスは、上方に、酸化帯から酸素浄化帯に逆流的に通される。酸素含有ガスは、酸化帯を通して移動するので一次流中に直接導入され、そして一次流と酸素含有ガスとの間の反応は、生成混合物を生成する。最後に、生成混合物は、ＣＨＨＰ、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から引き出される。【選択図】図１ |
