IMAGING OPTICAL SYSTEM PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE AND METHOD FOR PRODUCING A MICROSTRUCTURED COMPONENT WITH A PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION OF THIS TYPE

摘要

결상 광학 시스템(8)의 일 실시예는 빔 안내 요소들로서 전용으로 미러들을 갖는다. 상기 결상 광학 시스템(8)은 적어도 하나의 물체면(6) 내의 적어도 하나의 물체 필드(4,5)를, 적어도 하나의 이미지면(11) 내의 적어도 하나의 이미지 필드(9,10)로 결상한다. 상기 결상 광학 시스템(8)에서는, 서로 공간적으로 분리되고, 마찬가지로 서로 공간적으로 분리되는 두 개의 이미지 필드들(9,10)과 연관되는 두 개의 물체 필드(4,5)가 있다. 그 결과 결상 광학 시스템에서는 사용의 유연성이 증가된다.