ジルコニア粒子を含むＣＭＰ組成物および使用方法

摘要

本発明は、ジルコニア粒子、ジルコニア粒子に付着する改質剤、有機酸および水を含む化学機械研磨組成物、ならびに基材を研磨するためにそのような研磨組成物を用いる方法、およびジルコニア粒子、有機酸、酸化剤および水を含む研磨組成物を用いて、金属および酸化物系誘電体材料を含む基材を研磨する方法を提供する。