ドライプラズマエッチング装置用の比例的及び均一な制御されたガス流送出

摘要

本発明の実施形態は、均一性を改善した、処理ガスを処理チャンバに提供するための方法及び装置に関する。本発明の一実施形態は、ガス注入アセンブリを提供する。ガス注入アセンブリは、入口ハブと、入口ハブに接触して配置された複数の注入通路を有するノズルと、ノズルと入口ハブの間に配置された分配インサートを含む。分配インサートは、入口ハブをノズルの複数の注入通路に接続するように構成された１以上のガス分配通路を有する。１以上のガス分配通路の各々は、複数の出口と接続する１つの入口を有し、入口と複数の出口の各々との間の距離は実質的に等しい。