发明名称 |
重要チャンバコンポーネント用プラズマ溶射プロセスの強化 |
摘要 |
<p>物品の上にイットリウム含有酸化物のプラズマ溶射されたコーティングを施すための最適化された方法において、プラズマ溶射システム用に約89〜91kWの間のプラズマ電力が選択される。ガスが、約115〜130L/分の選択されたガス流量でプラズマ溶射システムを通して流される。イットリウム含有酸化物を含むセラミックス粉末が、約10〜30g/分の選択された粉末供給速度でプラズマ溶射システム内に供給される。その後、イットリウムが支配的なセラミックスコーティングが、選択された電力、選択されたガス流量、及び選択された粉末供給速度に基づいて、物品上に形成される。</p> |
申请公布号 |
JP2015522710(A) |
申请公布日期 |
2015.08.06 |
申请号 |
JP20150509010 |
申请日期 |
2013.04.11 |
申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED |
发明人 |
サン ジェニファー ワイ;カヌンゴ ビラジャ ピー;デュアン レングアン |
分类号 |
C23C4/12;C04B41/87;C23C4/10;C23C24/04 |
主分类号 |
C23C4/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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