| 摘要 |
【課題】 ＸＹ位置制御および焦点制御の両方を提供することができるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】 ＸＹ平面における位置の高分解能制御および／または焦点制御を提供するフィールドマニピュレータ。このフィールドマニピュレータは、パターニングデバイスと基板との間に配置されたプレートを含む。焦点位置の制御がプレートの局所的変形によって提供することができる一方、ＸＹ位置の制御はプレートの傾きによって提供される。両方の調整は、プレートの１つ以上の縁部に作用する１つ以上のアクチュエータによって行うことできる。一実施形態では、２つの実質的に平行なプレートが提供され、そのプレート間の間隔を変化させることによって焦点制御を提供することができる。【選択図】図６ |
