| 发明名称 |
複数の放射ビームの特性を修正するアセンブリ、リソグラフィ装置、複数の放射ビームの特性を修正する方法およびデバイス製造方法 |
| 摘要 |
<p>【課題】 例えば、ファイバまたは導波路寿命および／またはレーザダイオードのコスト／入手可能性の問題に対処するアセンブリを提供する。【解決手段】 複数の放射ビームの特性を修正するアセンブリであって、アセンブリは、複数の放射ビームをより接近させて誘導するように構成された複数の導波路と、複数の導波路によって誘導された複数の放射ビームを受け、かつ整数倍の高い周波数を有する対応する複数の放射ビームを生成するように構成された周波数逓倍デバイスとを備える。対応するリソグラフィ装置、複数の放射ビームの特性を修正する方法およびデバイス製造方法についても記載する。【選択図】 図１</p> |
| 申请公布号 |
JP2015522937(A) |
申请公布日期 |
2015.08.06 |
| 申请号 |
JP20150506266 |
申请日期 |
2013.05.06 |
| 申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． |
发明人 |
ムルダー，ハイネ;デ ヤゲル，ピーター |
| 分类号 |
H01L21/027;G02F1/37;G03F7/20;H01S3/109;H01S5/183 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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