| 摘要 |
<p>Verfahren zur Messung von Parametern in einer Plasmaversorgungseinrichtung, wobei ein mit einem zu messenden Parameter in Beziehung stehendes Lichtsignal generiert wird und zu einer Auswerteanordnung übertragen wird und ein empfangenes Lichtsignal zur Auswertung in ein elektrisches Auswertesignal gewandelt wird, wobei als Lichtsignal ein analoges Lichtsignal generiert wird, welches in ein analoges elektrisches Auswertesignal gewandelt wird, wobei die Plasmaversorgungseinrichtung zumindest ein Schaltelement (1, 2) umfasst und bei Frequenzen > 3 MHz und einer Versorgungsspannung des mindestens einen Schaltelements (1, 2) > 100 V betrieben wird, und zumindest das Schaltelement (1) ein sich veränderndes Bezugspotenzial hat, und wobei das mindestens eine Schaltelement (1, 2) und/oder mindestens ein Treiber (12, 13) für ein Schaltelement (1, 2) und mindestens eine Lichtquelle (22, 25, 29) auf einem gemeinsamen Substrat (37) angeordnet sind.</p> |
