光刻机

摘要

本发明涉及一种光刻机，所述光刻机从上往下依次包括光源、掩膜板、折射镜单元和物镜，所述折射镜单元用于减小光源通过掩膜板发生衍射后的衍射光的衍射角度，其中所述折射镜单元由至少一个棱镜构成，所述折射镜单元中的棱镜折射率均大于1，且所述折射镜单元中最靠近掩模板的棱镜表面和最靠近物镜的棱镜表面均为平面。本发明在现有的光刻机的掩膜板和物镜之间增加一组折射率大于1的折射镜单元，用于减小光源通过掩膜板发生衍射后的衍射光的衍射角度，在物镜数值孔径不变的情况下，提高光刻机的分辨率，延长光刻平台的使用寿命。

主权项

一种光刻机，用于曝光硅片，所述光刻机从上往下依次包括光源、掩膜板、折射镜单元和物镜，所述折射镜单元用于减小光源通过掩膜板发生衍射后的衍射光的衍射角度，其特征在于：所述折射镜单元由至少一个棱镜构成，所述折射镜单元中的棱镜折射率均大于1，且所述折射镜单元中最靠近掩模板的棱镜表面和最靠近物镜的棱镜表面均为平面。