发明名称 | 摩擦处理方法及光学膜的制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种可减少扬尘的摩擦处理方法及光学膜的制造方法。一种摩擦处理方法,其包括利用布材摩擦配向膜形成材料的表面的步骤,所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、及织入该底布组织中的绒头纱线,且所述绒头纱线为具有海岛构造的纤维。 | ||
申请公布号 | CN103364997B | 申请公布日期 | 2015.08.05 |
申请号 | CN201310099964.1 | 申请日期 | 2013.03.26 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 直井博之 |
分类号 | G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1337(2006.01)I |
代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
主权项 | 一种摩擦处理方法,其用以对配向膜形成材料赋予配向性,其特征在于:包括利用布材摩擦所述配向膜形成材料的表面的步骤,所述布材包括包含经线及纬线的底布组织、以及织入所述底布组织中的绒头纱线,且所述绒头纱线为具有海岛构造的纤维;所述绒头纱线的海部为由乙烯‑醋酸乙烯酯(EVA)所形成,岛部为由选自聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二酯(PBT)、尼龙的树脂所形成。 | ||
地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 |