| 发明名称 | 分光计及流体分析系统 | ||
| 摘要 | 一种分光计，特别用于构建在流体-分析系统的传感器模块(18)中，包括辐射源以及下述的限定光程或沿着光程布置的组件：用于待检查的流体的样品空间(26)，第一透镜(44)，衍射件(48)，第二透镜(50)，以及探测器(52)。在样品空间(26)与衍射件(48)之间设置限制孔径(46)，用于限制撞击到衍射件(48)上的射线束的有效直径。 | ||
| 申请公布号 | CN104819775A | 申请公布日期 | 2015.08.05 |
| 申请号 | CN201510053734.0 | 申请日期 | 2015.02.02 |
| 申请人 | 比尔克特韦尔克有限公司 | 发明人 | 马丁·嘉宝;克里斯托夫·肖勒 |
| 分类号 | G01J3/02(2006.01)I;G01J3/18(2006.01)I;G01J3/04(2006.01)I;G01N21/31(2006.01)I | 主分类号 | G01J3/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 刘明海;杨生平 |
| 主权项 | 一种分光计，特别用于构建在传感器模块(18)中，具有辐射源(28)以及下述的限定光程或沿着光程布置的组件：用于待检查的流体的样品空间(26)，第一透镜(44)，衍射件(48)，第二透镜(50)，以及探测器(52)，其中，在样品空间(26)与衍射件(48)之间设置限制孔径(46)，用于限制撞击到衍射件(48)上的射线束的有效直径。 | ||
| 地址 | 德国英格尔芬根 | ||