薄膜沉积设备以及掩模单元和坩埚单元

摘要

本发明公开了用于执行连续沉积的薄膜沉积设备以及包括在薄膜沉积设备中的掩模单元和坩埚单元。薄膜沉积设备包括：基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚。

主权项

一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚，其中，坩埚单元包括：循环轨，形成循环路径；多个坩埚，用于容纳沉积源并安装在循环轨上；坩埚移动单元，被构造成沿循环轨移动所述多个坩埚；坩埚填充单元，用来将所述沉积源填充在所述多个坩埚中；以及坩埚加热单元，被构造成加热所述多个坩埚以产生沉积源的蒸气，其中，坩埚加热单元包括被构造成加热所述多个坩埚的加热线、用于将电压施加到加热线的功率源、以及位于所述多个坩埚上以将功率源和加热线彼此电连接的接触垫。