发明名称 |
一种锆或锆合金表面离子渗氧制备二氧化锆渗层的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种锆或锆合金表面离子渗氧制备二氧化锆渗层的方法,该方法为:一、对锆或锆合金表面进行打磨处理,超声清洗及水洗后烘干;二、将锆或锆合金置于离子氮化炉中,抽真空至炉内气压不大于10Pa,然后向离子氮化炉内通入氩气,在炉内气压不低于20Pa的条件下对锆或锆合金表面进行离子轰击清洗,再向离子氮化炉中通入空气或氧气,对离子轰击清洗后的锆或锆合金表面进行离子渗氧处理,在锆或锆合金表面得到二氧化锆渗层。本发明通过对离子轰击清洗后的锆或锆合金表面进行渗氧处理,在锆或锆合金表面得到组织均匀致密的二氧化锆渗层,且该二氧化锆渗层的生长速度快,能够显著提高锆或锆合金的表面硬度和耐腐蚀性能。 |
申请公布号 |
CN104818449A |
申请公布日期 |
2015.08.05 |
申请号 |
CN201510238894.2 |
申请日期 |
2015.05.12 |
申请人 |
长安大学 |
发明人 |
田晓东;王利捷;孙志平 |
分类号 |
C23C8/12(2006.01)I;C23C8/36(2006.01)I |
主分类号 |
C23C8/12(2006.01)I |
代理机构 |
西安创知专利事务所 61213 |
代理人 |
谭文琰 |
主权项 |
一种锆或锆合金表面离子渗氧制备二氧化锆渗层的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、对锆或锆合金表面进行打磨处理,然后超声清洗打磨后的锆或锆合金,水洗后烘干;步骤二、将步骤一中烘干后的锆或锆合金置于离子氮化炉中,抽真空至炉内气压不大于10Pa,然后向抽真空后的离子氮化炉内通入氩气,在炉内气压不低于20Pa的条件下对锆或锆合金表面进行离子轰击清洗,离子轰击清洗后向所述离子氮化炉中通入空气或氧气,再将炉内温度升至400℃~900℃,对离子轰击清洗后的锆或锆合金表面进行离子渗氧处理,随炉冷却至室温后在锆或锆合金表面得到二氧化锆渗层;所述离子渗氧处理的时间为60min~300min。 |
地址 |
710064 陕西省西安市南二环中段33号 |