发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供能够抑制ON动作时的电流、发热的局部性的集中而使破坏耐性提高的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:半导体基板,具有纵向元件;第1电极,设置于半导体基板的一方的面;第2电极,设置于半导体基板的另一方的面;第1导电部件,设置于第1电极的部的、与半导体基板相反一侧;以及第2导电部件,设置于第2电极的、与半导体基板相反一侧。另外,纵向元件的第1电极的部与第2电极之间的电阻低于与部邻接且未设置第1导电部件的第1电极的周边部与第2电极之间的电阻。
申请公布号 CN104821330A 申请公布日期 2015.08.05
申请号 CN201410303087.X 申请日期 2014.06.30
申请人 株式会社东芝 发明人 尾西一明
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 金春实
主权项 一种半导体装置,其特征在于,具备:半导体基板,具有纵向元件;第1电极,设置于所述半导体基板的一方的面;第2电极,设置于所述半导体基板的另一方的面;第1导电部件,设置于所述第1电极的中央部的与所述半导体基板相反一侧;以及第2导电部件,设置于所述第2电极的与所述半导体基板相反一侧,所述纵向元件的所述第1电极的中央部与所述第2电极之间的电阻低于与所述中央部邻接且未设置所述第1导电部件的所述第1电极的周边部与所述第2电极之间的电阻。
地址 日本东京都