发明名称 |
一种改善直拉法生长单晶硅质量的方法以及加热器 |
摘要 |
本发明公开了一种改善直拉法生长单晶硅质量的方法,包括步骤:将原料硅投入晶体炉的坩埚内;加热器加热坩埚融化埚内的原料硅并保持熔体在熔融状态;将棒状籽晶浸入熔液中;通入惰性气体至熔体液面,控制炉内压力;一边旋转坩埚,一边提升相对坩埚反向旋转的棒状籽晶,得到圆柱形的单晶硅晶体,在拉晶过程中,控制沿着坩埚深度方向的加热量,使熔体自生长界面至坩埚底部的温度梯度减小;本发明还提供了一种实现本发明方法的加热器;本发明有效减小热对流,降低单晶硅中的微缺陷和有害杂质,制备得到低缺陷、超低氧、高少子寿命的单晶硅,成本较低且易于实现。 |
申请公布号 |
CN104818524A |
申请公布日期 |
2015.08.05 |
申请号 |
CN201510210421.1 |
申请日期 |
2015.04.28 |
申请人 |
汤灏 |
发明人 |
汤灏 |
分类号 |
C30B15/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I |
主分类号 |
C30B15/14(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 |
代理人 |
胡红娟 |
主权项 |
一种改善直拉法生长单晶硅质量的方法,包括步骤:将原料硅投入晶体炉的坩埚内;加热器加热坩埚融化埚内的原料硅并保持熔体在熔融状态;将棒状籽晶浸入熔液中;通入惰性气体至熔体液面,控制炉内压力;一边旋转坩埚,一边提升相对坩埚反向旋转的棒状籽晶,得到圆柱形的单晶硅晶体;其特征在于,在拉晶过程中,控制沿着坩埚深度方向的加热量,使熔体自生长界面至坩埚底部的温度梯度减小。 |
地址 |
310013 浙江省杭州市西湖区求是村72幢402室 |