发明名称 |
一种具有光致发光特性的硅基量子点纳米材料的制备方法 |
摘要 |
本发明属于光致发光半导体纳米材料制备领域,尤其涉及一种具有光致发光特性的硅基量子点纳米材料的制备方法。本发明利用强流脉冲电子束制备硅基纳米量子点纳米材料,随后对不同参数下硅纳米量子点纳米材料进行光致发光特性PL测定,实验发现,经过HCPEB辐照制备出硅基纳米量子点纳米材料,并且所述纳米材料能够发出强度较高的蓝光。 |
申请公布号 |
CN103146379B |
申请公布日期 |
2015.08.05 |
申请号 |
CN201310096948.7 |
申请日期 |
2013.03.25 |
申请人 |
江苏大学 |
发明人 |
关庆丰;吕鹏;王晓彤;张在强;李艳;杨盛志;侯秀丽 |
分类号 |
C09K11/59(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I |
主分类号 |
C09K11/59(2006.01)I |
代理机构 |
南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
代理人 |
楼高潮 |
主权项 |
一种具有光致发光特性的硅基量子点纳米材料的制备方法,其特征在于:利用强流脉冲电子束辐照单晶硅片制备硅基纳米量子点纳米材料,所述纳米材料能够发出蓝光;所述强流脉冲电子束的能量为<b>24 KeV</b>,作用时间为1.5ìs,脉冲间隔为10 s,电子束脉冲次数<b>为</b><b>10</b>,样品距阴极电子枪距离L=<b> 60 mm</b>,真空度P 为<b>10<sup>‑5 </sup>Torr</b>;所述作为基底的单晶硅片取向<b>为</b><b><111></b>,电阻率ρ=<b>30~50 </b><b>Ω</b><b>/m</b>,厚度为<b>T=500</b><b>±</b><b>10</b><b>μ</b><b>m</b>或所述作为基底的单晶硅片<b>取向为</b><b><100></b>,电阻率<b>ρ</b><b>=1~20</b><b>Ω</b><b>/m</b>,厚度<b>T=490</b><b>±</b><b>10</b><b>μ</b><b>m</b><b>。</b> |
地址 |
212013 江苏省镇江市京口区学府路301号 |