| 发明名称 | 等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺 | ||
| 摘要 | 一种等离子发生器、退火设备、镀膜结晶化设备及退火工艺。该等离子发生器包括气体室、用于向所述气体室输入气体的进气单元、用于给进入所述气体室内的气体施加电场使其电离成为等离子体的阴极和阳极、用于控制等离子发生器温度的冷却水循环单元、以及设置在所述气体室顶面的离子束出口。包含该等离子发生器的退火设备可产生等离子束，可用于对非晶硅薄膜退火，使其结晶成为多晶硅薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN104822219A | 申请公布日期 | 2015.08.05 |
| 申请号 | CN201510254387.8 | 申请日期 | 2015.05.18 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 田香军;藤野诚治 |
| 分类号 | H05H1/24(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 彭久云 |
| 主权项 | 一种等离子发生器，包括：气体室；用于向所述气体室输入气体的进气单元；用于给进入所述气体室内的气体施加电场使其电离成为等离子体的阴极和阳极；用于控制等离子发生器温度的冷却水循环单元；以及设置在所述气体室顶面的离子束出口。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||