发明名称 金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜
摘要 本発明は、低コストにて低抵抗の金属酸化膜を作製することができる金属酸化膜の製造方法を提供する。そこで、本発明に係る金属酸化膜の製造方法では、アルキル金属を含む溶液(7)を、非真空下に配置された基板(1)に対して噴霧する。さらに、当該溶液(7)の噴霧の際に、基板(1)に対して、無機化合物から成るドーパントを含むドーパント溶液(5)を噴霧する。
申请公布号 JPWO2013145161(A1) 申请公布日期 2015.08.03
申请号 JP20140507129 申请日期 2012.03.28
申请人 東芝三菱電機産業システム株式会社 发明人 白幡 孝洋;織田 容征;平松 孝浩
分类号 C01B13/34;C01G9/02;C23C16/40 主分类号 C01B13/34
代理机构 代理人
主权项
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