| 摘要 |
<p>본 발명은 패널 검사용 프로브 블록의 제조 방법에 관한 것으로서, 기판으로 사용되는 필름의 결함이 공정 수율에 영향을 미치는 것을 최소화할 수 있고, 작은 피치 크기가 요구되는 프로브 블록을 제조함에 있어서 종래의 공정상 문제 및 수율 저하의 문제를 개선할 수 있는 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 공정 기판을 준비하는 단계; 상기 공정 기판 위에 시드층을 형성하는 단계; 상기 시드층 위에 범프 공간을 형성하기 위한 PR 패턴을 적층하는 1차 포토리소그래피 공정 단계; 상기 PR 패턴 위에서 전기도금을 실시하여 1차 포토리소그래피 공정 중 PR이 제거된 부분에 범퍼가 되는 메탈 도금층을 형성하는 단계; 상기 PR 패턴 위에 배선 공간을 형성하기 위한 PR 패턴을 적층하는 2차 포토리소그래피 공정 단계; 상기 2차 포토리소그래피 공정에서 형성한 PR 패턴 위에서 전기도금을 실시하여 2차 포토리소그래피 공정 중 PR이 제거된 부분에 배선이 되는 메탈 도금층을 형성하는 단계; 상기 배선 위로 프로브 블록의 기판이 되는 필름을 접착하는 단계; 및 상기 공정 기판 및 시드층, PR 패턴을 모두 제거하는 단계를 포함하는 패널 검사용 프로브 블록의 제조 방법을 제공한다.</p> |
