| 摘要 |
【課題】小型で簡単な構成からなり、被処理物の連続的かつ大量処理が可能で、後の工程でのスケールの生成やその成長を抑制することなどが可能な連続式ガス反応装置等を提供する。【解決手段】反応槽３Ａ〜３Ｄを複数段直列に接続し、各反応槽内で固体スラリーＳ又は液体とガスＧ１〜Ｇ４とを反応させるガス反応装置であって、各反応槽での反応に応じて、各反応槽でのガスの散気状態を変化させる連続式ガス反応装置３等。前記ガスの散気状態の変化を、散気するガスの流量、気泡径及び種類から選択される一以上を変化させることにより行うことができる。固体スラリー又は液体及びガスとは、相互に反応してスケールを誘発させる物質とすることもできる。固体スラリー又は液体を反応槽３以外で生成する必要がある場合には、反応槽３Ａの前段に溶解槽２を配設することもできる。【選択図】図１ |
