发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER
摘要 <p>반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 방법 및 장치(100)가 제공되어, 배치 세정 및 단일 웨이퍼 세정을 함께 조합한다. 상기 방법은, 로드 포트(110) 내의 카세트로부터 2개 이상의 웨이퍼를 취하여 화학 용액으로 충전된 제1 탱크(137) 내에 상기 웨이퍼를 두는 단계; 상기 웨이퍼가 상기 제1 탱크(137) 내에서 처리된 후에, 상기 웨이퍼를 상기 제1 탱크(137) 외부로 취하여 상기 웨이퍼를 습윤 상태로 유지하는 단계; 상기 웨이퍼를 액체로 충전된 제2 탱크(138) 내에 두는 단계; 상기 웨이퍼가 상기 제2 탱크(138) 내에서 처리된 후에, 상기 웨이퍼를 상기 제2 탱크(138) 외부로 취하여 상기 웨이퍼를 습윤 상태로 유지하는 단계; 상기 웨이퍼 중 하나를 단일의 웨이퍼 세정 모듈(150) 내의 척 상에 두는 단계; 상기 웨이퍼 상에 화학 용액을 인가하면서 상기 척을 회전시키는 단계; 상기 웨이퍼 상에 탈이온수를 인가하는 단계; 상기 웨이퍼를 건조시키는 단계; 및 상기 웨이퍼를 상기 단일의 웨이퍼 세정 모듈 외부로 취한 다음, 상기 웨이퍼를 상기 로드 포트 내의 상기 카세트에 다시 두는 단계를 구비한다.</p>
申请公布号 KR20150088792(A) 申请公布日期 2015.08.03
申请号 KR20157012686 申请日期 2012.11.28
申请人 ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC. 发明人 WANG HUI;CHEN FUPING;XIE LIANGZHI;JIA SHENA;WANG XI;ZHANG XIAOYAN
分类号 H01L21/02;H01L21/67;H01L21/677 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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